摩尔定律面临的两个问题

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

戈登·摩尔在1965年提出摩尔定律时,其内容为半导体芯片上集成的晶体管数量将每年增加一倍,1975年,他又根据当时的实际情况对摩尔定律进行了修正,把"每年增加一倍"改为了"每18到24个月增加一倍"。

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

摩尔定律发展至今已有50多年,在这50多年间,不断有人唱衰,甚至有人提出“摩尔定律已死”的观点。

今天,我们从两个方面看待摩尔定律终结的原因,一个是从微观角度(micro-view),一个是从宏观角度(macro-view),我们可以称之为:摩尔定律面临的两个问题。

微观问题 Micro-Problem

虽然芯片制造商已经使用了各种手段来跟上摩尔定律的步伐,但还是无法避免摩尔定律的加倍效应已经开始放缓的事实,不断地缩小芯片的尺寸总会有物理极限:现在最新的制程工艺特征尺寸仅为7nm,而硅原子的半径为0.117nm,也就是说,在7nm工艺的芯片中的晶体管的特征尺寸仅为不到30个硅原子组成(因为原子空间利用率的原因,实际上要更少,详见后面分析),随着特征尺寸的进一步减少,其数量还会进一步减少。

在同等面积大小的区域里,随着集成越来越多的晶体管电路,漏电流增加、散热问题大、时钟频率增长减慢等问题难以解决。

1)特征尺寸是晶体管结构中的最小尺寸吗?

我们先来看晶体管的微观结构,下图是目前最主流的FinFET(FinField-EffectTransisto)晶体管的结构。特征尺寸指的是栅极的宽度,目前主流芯片最小为7nm。

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

对比下面的显微图像,我们也可以判断出其特征尺寸为下图红线所标识。

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

从上面两张图我们可以看出,其实特征尺寸并非是晶体管里的最小尺寸,Fin (鳍) 的宽度至少是小于特征尺寸的,因此特征尺寸为7nm的晶体管中,所需要制造的最小尺寸其实是小于7nm的。

而到了下一代堆叠纳米片的晶体管结构,这种趋势则更加明显,在特征尺寸(栅极宽度)为3nm的晶体管中,其最小需要制造的尺寸(例如纳米片的厚度)则要远远小于3纳米,甚至要小于1nm。

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

小于1nm会遇到什么问题呢?我们需要了解一下硅的原子结构。

2)硅原子的物理结构

下面,我们来了解一下硅原子的物理结构,下图为硅的晶胞结构:

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

晶胞是反映晶体对称性质的最小单元,在由硅原子构成的一个面心立方体(8个顶点+6个面各有一个硅原子)的晶胞内,另外还有四个硅原子,分别位于四个空间对角线的 1/4处,平均到每一个硅晶胞中的原子数为8 (8*1/8+6*1/2+4=8) 。

硅的晶胞边长为a(晶格常数),在300K时,a=5.4305Å (0.543nm),1nm相当于不到2a,也就是说在1nm的宽度内两个晶胞都安放不下。

硅原子空间利用率:硅原子体积/单位原子在晶胞中占有的体积,硅晶体空间利用率约为34%,即晶胞空间内1/3为原子,2/3为空隙,如下图所示。

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也就是说,我们看到的硅已经不再是平滑连续的,而是由离散的原子团组成的。

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此时,在连续系统中适用的定律和法则很多都会失效,晶体管也就不能正常工作了。因此,从微观角度看,摩尔定律是不可持续的。

宏观问题 Macro-Problem

摩尔定律,无论是1965年提出时的:“半导体芯片上集成的晶体管数量将每年增加一倍”,还是1975年修正的:“每18到24个月增加一倍”,从数学意义上来看,其曲线都是指数增长的。

假设某一个时间点上,芯片上集成的晶体管数量为X,则18月后为2X,2个18月后为4X,n个18月后为2^n*X,那么从现在开始,我们就可以估算人类生产的晶体管数量:Y=X(1+2+4+8...+2^n),给公式两边同时乘以(2-1)则可得Y=X(2^(n+1)-1)。具体请参看:地球上的硅能生产多少只晶体管?

从公式1+2+4+8...+2^n=2^(n+1)-1我们可以看出,无论以前生产的数量有多少,到了下一个周期,一个周期内生产(消耗)数量将为以前所有周期生产的数量的总和还要多1。

从另外一个角度,只要晶体管数量的增长继续遵循指数曲线,那么,未来的每一代人回过头来看时,过去的时代都会是几乎没有进步的时代。这其实就是一个悖论。

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(图片来源于“指数发展曲线”的真正意义)

宇宙中的原子数量才有10^80个,如果晶体管的数量按照指数曲线增长,仅仅需要一个半世纪(150多年),宇宙中的原子都要消耗殆尽了,这显然是不可能的!(需要读者注意的是,本文在估算的时候,做了一些前提假设,实际的数值会和前提条件的变化有关,但不会发生数量级上的变化)

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

写到这里,我们可以得出一个结论:从物理学的意义上来讲,指数曲线基本上都是不可持续的。因此,从宏观角度看,摩尔定律也是不可持续的。

我又想起了一个故事:"甲问乙,你觉得一张报纸能对折40次吗?乙说,我觉得可以啊,说完就找到一张最大的报纸折叠起来...... "最后的结果如何呢?

这实际是一项不可能完成的任务,因为一张报纸对折40次的厚度超过了11万公里,远超过绕地球两圈半了!

一张报纸只要对折27次,其厚度就会超过珠穆朗玛峰的高度,对折36次,就超越了中国最北端到最南端的距离,对折42次,就超过了地球到月球的距离!

指数曲线的增长就是如此可怕,越往后,越可怕!前面所有的增长相对于后面的增长来说几乎都可以忽略不记!

既然从微观和宏观上来看,摩尔定律都是不可持续的,那什么定律能够代替摩尔定律呢?

作者认为最有可能的就是:功能密度定律,请参看原创文章:摩尔定律 vs 功能密度定律

*免责声明:本文由作者原创。文章内容系作者个人观点,半导体行业观察转载仅为了传达一种不同的观点,不代表半导体行业观察对该观点赞同或支持,如果有任何异议,欢迎联系半导体行业观察。

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干货 摩尔定律 vs 功能密度定律

摩尔定律 VS 功能密度定律

众所周知,随着IC工艺的特征尺寸向5nm、3nm迈进,摩尔定律已经要走到尽头了,那么,有什么定律能接替摩尔定律呢?

这就是我们今天要提出的:“功能密度定律-Function Density Law” ,简称“FD Law”。

首先,让我们回顾一下摩尔定律。

1. 摩 尔 定 律

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

摩尔定律(Moore's Law)是由英特尔(Intel)创始人之一戈登·摩尔(Gordon Moore)于1965年提出来的,至今已有55年。

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

摩尔定律内容为:当价格不变时,集成电路上可容纳的元器件的数目,约每隔18-24个月便会增加一倍,性能也将提升一倍。换言之,每一美元所能买到的电脑性能,将每隔18-24个月翻一倍以上。

总得来说,摩尔定律有以下三种说法:

1、集成电路芯片上所集成的电路的数目,每隔18-24个月就翻一番。

2、微处理器的性能每隔18-24个月提高一倍,而价格下降一倍。

3、用一个美元所能买到的电脑性能,每隔18-24个月翻两番。

以上几种说法中,以第一种说法最为普遍,第二、三两种说法涉及到价格因素,其实质是一样的。三种说法虽然各有千秋,但在一点上是共同的,即"翻番"的周期都是18-24个月,至于"翻一番"(或两番)的是"集成电路芯片上所集成的电路的数目",是整个"计算机的性能",还是"一个美元所能买到的性能"就见仁见智了。

这一定律揭示了信息技术进步的速度,尽管这种趋势已经持续了超过半个世纪,摩尔定律仍应该被认为是观测或推测,而不是一个物理或自然法。

摩尔定律到底准不准?让我们先来看下面一张图,从图中可以看出,采样点基本位于曲线的附近,可以看出摩尔定律基本上还是准确的。

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

摩尔定律并非数学或者物理定律,而是对发展趋势的一种预测,因此,无论是文字表述还是定量计算,都应当容许一定的宽裕度。从这个意义上看,摩尔的预言是相当准确了,所以才会被业界人士的公认,并产生巨大的反响。

"摩尔定律"的终结

摩尔定律问世至今已55年了,我们知道:芯片上元件的几何尺寸总不可能无限制地缩小下去,这就意味着,总有一天,芯片单位面积上可集成的元件数量会达到极限。

从技术的角度看,随着硅片上线路密度的增加,其复杂性和差错率也将呈指数增长,同时也使全面而彻底的芯片测试几乎成为不可能。

一旦芯片上特征尺寸达到1纳米时,相当于只有5个硅原子的大小,这种情况下材料的物理、化学性能将发生质的变化,致使采用现行工艺的半导体器件不能正常工作,摩尔定律也就要走到它的尽头了。

2. 功能密度定律

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

既然摩尔定律已经要走到尽头了,就需要有一个新的定律来接替摩尔定律,有什么定律能接替摩尔定律呢?

这就是我们今天要提出的:“功能密度定律”(Function Density Law)。

功能密度定律:

对于所有的电子系统来说,沿着时间轴,系统空间内的功能密度总是在持续不断地增大,并且会一直持续下去。

Function Density Law:For all electronic systems, along the time axis, the function density in system space is constantly increasing and will continue.

下图为功能密度定律的曲线描述:

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

从以上曲线可以看出,电子系统的功能密度会随着时间延续而持续地增长,其增长的快慢在不同的历史时期会有所不同,如果有新的技术的突破,其增长的就会比较快,如果没有新技术突破,其增长则会比较缓慢,但总的趋势是不断增长。

要理解功能密度定律,首先我们要理解什么是功能密度?

功能密度:单位体积内包含的功能单位的数量称为功能密度。

Function density: The number of Function UNITs contained in a unit volume is called function density.

功能密度中的关键词是功能单位 ,那什么又是功能单位(Function UNITs)呢?我们需要了解一下电子系统的6级功能分类。

电子系统6级分类法:

6-levels classification of electric system:

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题 功能细胞 ,Function cell(FC),功能细胞是电子系统组成的最小功能单位,不可拆分,如果拆分,功能则会丧失,不可恢复,例如晶体管Transistor,电阻、电容、电感等都是功能细胞。功能块 ,Function block(FB),功能块由功能细胞组成,具有一定的逻辑功能,例如,6个Transistor可以组成一个SRAM存储功能块,1个Transistor和1个电容可以以组成一个DRAM存储功能块,4个MOS管可以组成一个与非门或者或非门。功能块是具有特定功能的功能单位。功能单元 ,Function unit(FU),功能单元由功能块组成,可以完成复杂功能的功能单位,例如算术逻辑单元(ALU),输入输出控制单元(IO Control Unit),中央处理单元(CPU)等,计算机的处理器,DSP,FPGA,存储器等都可以归属于功能单元这一级别的功能单位。微系统 ,Micro System(MS),到这一级别,我们开始定义系统的概念,微系统可以独立完成系统功能,并且体积较小,通常并不直接和最终用户打交道,例如SiP, SoC,SoP等,微系统通常可由功能单元、功能块或者功能细胞组成。常系统 ,Common System(CS),也可称之为常规系统,顾名思义就是常人能接触到的系统,一般是指和最终用户直接打交道的系统,这里的最终用户指的是人。例如手机,电脑,家用电器等都可称为常系统,常系统通常由微系统、功能单元组成;大系统 ,Giant System(GS),一般是指复杂而庞大的系统,例如无线通信网络系统,互联网系统,载入航天系统、空间站系统等,大系统通常由常系统、微系统等组成。

在以上的定义中,功能细胞(FC),功能块(FB),功能单元(FU),都可以称之为功能单位(FUs), 它们分别属于不同级别的功能单位。

我们再回顾一下功能密度的定义:

单位体积内包含的功能单位的数量称为功能密度。这其中的功能单位(Function UNITs)可以是:功能块(Function Block),功能细胞(Function Cell)或者功能单元(Function Unit)。

需要注意的是:在进行同一类型系统的功能密度比较时,需要采用相同级别的功能密度定义。 例如,系统A、B、C的功能密度进行比较,A采用功能块(Function Block)作为功能单位来定义功能密度,则B和C同样需要采用功能块(Function Block)作为功能单位来定义功能密度。

3. 功能密度定律的意义

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

如果将功能密度定义中的功能单位具体为功能细胞(Transistor),并将其空间二维化,将其时间具体化,那么,功能密度定律就会缩化为摩尔定律。

如果将集成电路上的晶体管集成从二维平面扩展为三维空间,将晶体管扩展为功能单位,并将时间由具体变为趋势化,那么,摩尔定律就会扩展为功能密度定律。

我们也可以这么理解,对于电子系统的集成来说,摩尔定律是功能密度定律的在集成电路上特例,而功能密度定律则是摩尔定律在整个电子系统的扩展。

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

也许会有人问,为什么功能密度定义时用的不是确定的功能单位,而是三个层次的功能单位(功能块FB,功能细胞FC,功能单元FU)呢?这是由于功能本身的复杂性和不确定性。

例如,新技术的发展,功能块的结构发生了进化,仅需要更小的功能块(Function Block) 就可以实现同样的功能,这样,即使最底层的功能细胞(Function Cell)Transistor的数量没有变化,其功能密度也同样是增加的。

比如我们通常用的SRAM需要6个晶体管(Transistor)可以实现一个存储单元,称为6T,一种新技术的出现据说可以用1个晶体管实现一个存储单元,称为1T,这样,即使单位体积内的晶体管数量不变,其功能密度却增加了6倍。

以此类推......

4. 小结 和 展望

摩尔 vs 摩尔定律面临的两个问题

功能密度定律预测了电子系统集成的趋势,并将成为判断电子系统先进性的重要指标!

摩尔定律是关于人类创造力的定律,实际上是关于人类信念的定律,当人们相信某件事情一定能做到时,就会努力去实现它。摩尔当初提出他的观察报告时,实际上是给了人们一种信念,使大家相信他预言的趋势一定会持续。

功能密度定律同样是关于人类创造力的定律,也是关于人类信念的定律,当人们相信电子系统空间内的功能密度一定能会持续增加时,同样会努力去实现。

功能密度定律(Function Density Law,简称FD Law)是作者Suny Li(Li Yang)于2020年1月20号在本文中首次正式提出。

在此之前,作者经历了20年的电子系统设计,积累了丰富的项目经验,并且通过了长久的分析和思考而得出。

功能密度定律(FD Law)会不会像摩尔定律(Moore's Law)一样,成为电子系统集成的最重要定律呢?

现在,我们还不急着给出定论,等十年以后的2030年我们再看吧!

不再纠结于二维平面尺度上晶体管的缩放,而把思维投入到更广阔的空间,从多维度的集成,从结构化的创新,从更灵活的尺度去评判,去发展!

理解并运用功能密度定律,你就不会再纠结摩尔定律的终结,因为新的空间已经为我们打开,并且更为广阔!

正如人们常说的:“山重水复疑无路,柳暗花明又一村!”

功能密度定律 是作者在本文首次提出,或许还有其不完善的地方,也欢迎大家留言讨论。

来源:SiP与先进封装技术

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